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濺射產額隨入射離子能量變化的簡單示意圖，簡稱濺射曲線。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多！
顏色可以做到比較深，耐磨性能也很好，但其色調不夠純正，總是黑中略帶黃色。并且由于鈦的熔點相對較低，在濺射時易出現大的顆粒，使其光令度不易得到改善。
濺射鍍膜過程主要是將欲沉積成薄膜的材料制成靶材，固定在濺射沉積系統的陰極上，待沉積薄膜的基片放在正對靶面的陽極上。濺射系統抽至高真空后充入氬氣等，在陰極和陽極之間加載高壓，陰陽極之間會產生低壓輝光放電。
磁控濺射鍍膜技術主要用于塑料、陶瓷、玻璃、硅片等制品來沉積金屬或化合物薄膜從而獲得光亮、美觀、經濟的塑料、陶瓷表面金屬化制品。
磁控濺射不僅應用于科研及工業領域，已延伸到許多日常生活用品，主要應用在化學氣相沉積制膜困難的薄膜制備。
磁控濺射鍍膜技術由于其顯著的優點已經成為制備薄膜的主要技術之一。非平衡磁控濺射改善了等離子體區域的分布，顯著提高了薄膜的質量。
磁控濺射技術已經在我國的建材、裝飾、光學、防腐蝕、工磨具強化等領域比較廣泛的應用,利用磁控濺射技術進行光電、光熱、磁學、超導、介質、催化等功能薄膜制備是當前研究的熱點。
