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磁控濺射鍍膜在高清PET基材上進行多層貴金屬磁控濺鍍，通過對濺射的金屬層數和種類的設計達到光譜選擇的目的，從而實現可見光高透過。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多！
磁控濺射鍍膜是現代工業中不可缺少的技術之一，磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜。
磁控濺射技術發展過程中各項技術的突破一般集中在等離子體的產生以及對等離子體進行的控制等方面。通過對電磁場、溫度場和空間不同種類粒子分布參數的控制，使膜層質量和屬性滿足各行業的要求。
相對準確的電磁場設計是對濺射過程中的電磁場進行模擬，而不是只對未工作時的磁控濺射設備進行電磁場模擬。
陽極設計要考慮空間的位置，電位關系，尺寸和面積以及陽極的材料性能，保證濺射過程穩定進行。屏蔽的設計，首先要考慮電場的設計和電位關系，防止非靶材材料被濺射，污染薄膜。
濺射碰撞一般是研究帶電荷能離子與靶材表層粒子相互作用，并伴隨靶材原子及原子團簇的產生的過程。
