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磁控濺射是物理氣相堆積的一種,磁控濺射通過在靶陰極外表引入磁場，使用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射工藝在日常操作過程中有哪些常見的毛病呢？
磁控濺射常見毛病及解決辦法
1.無法起輝
（1）直流電源毛病，查看直流電源；
（2）氬氣進氣量小，查看氬氣流量計或加大氬氣進氣量；
（3）真空室清潔度不行，清潔真空室；
（4）靶材絕緣度不行，查看靶是否與地短路，在通水的情況下，對地電阻應該在 50kΩ以上；
（5）磁場強度不行，查看永磁體是否消磁；
（6）真空度太差，查看真空體系。
2.輝光不穩
（1）電壓電流不穩，查看電源；
（2）真空室壓力不穩，查看氬氣進氣量及真空體系；
（3）電纜毛病，查看電纜是否連接良好。
3.成膜質量差
（1）基片外表清潔度差，清潔基片外表；
（2）真空室清潔度差，清潔真空室；
（3）基片溫度過大或過小，查看溫控體系，校準熱電偶；
（4）真空室壓力過大，查看真空體系；
（5）濺射功率設置不當，查看直流電源，設置何事的設定功率。
4.濺射速率低
（1）氬氣進氣量過大或過小，調查輝光色彩可以判定氬氣是過大仍是過小，據此調整氬氣進氣量；檢修流量計；
（2）靶材過熱，查看冷卻水流量；
（3）查看永磁體是否消磁。
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