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              儋州EB500型電子束蒸發與電阻蒸發復合鍍膜

              儋州EB500型電子束蒸發與電阻蒸發復合鍍膜

              • 所屬分類:儋州電子束蒸發與電阻蒸發復合鍍膜
              • 瀏覽次數:
              • 發布日期:2020-08-07 15:38:44
              • 產品概述
              • 性能特點
              • 技術參數

              EB500型電子束蒸發與電阻蒸發復合鍍膜系統

              設備用途:

              EB500型電子束蒸發與電阻蒸發復合鍍膜系統用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等,廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產。

              設備組成:

              系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。

              技術參數:

              極限真空度:≤6.67×10-5Pa;

              抽速:45分鐘可達到6.67×10-4Pa;

              基片尺寸:4英寸x1片;

              加熱爐最 高溫度800°C;

              熱阻蒸發組件:2套;

              新型電子槍及電源:電子槍最 大功率8KW(10KV,800mA)可調;

              水冷式坩堝: 4穴坩堝,每個容量約為11 ml;

              膜厚控制儀(1個探頭):1套;

              分子泵系統:1套;

              控制系統:用工控機進行系統操作,可顯示或自動控制的功能有:電子槍、膜厚控制儀、樣品旋轉及加熱、氣路、抽氣;

              冷卻水循環機及水路組件:1套;

              離子轟擊系統組件:1套。

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