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              當前標簽:雙室磁控濺射

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              • JGP-560型雙室磁控濺射

                JGP-560型雙室磁控濺射

                分類:磁控濺射

                產品編號:1594717913

                瀏覽次數:2409

                關鍵詞:雙室磁控濺射雙室濺射雙室磁控

                設備用途:JGP-560型雙室磁控濺射系統用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。設備組成:主要由主濺射真空室、磁控濺射靶、基
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